等離子清洗過程中伴隨著物理作用與化學(xué)作用。物理作用機(jī)制是通過等離子體中的活性粒子轟擊污染物,使污染物脫離基體表面,由于粒子碰撞該過程產(chǎn)生熱效應(yīng);化學(xué)作用機(jī)制是指高能粒子具有極高活性,接觸污染物后與污染物反應(yīng)成小顆?;蛐》肿?,反應(yīng)物多具有較好的揮發(fā)性,從而實(shí)現(xiàn)對(duì)基體的清洗。...
2024-04-16近年來(lái),等離子技術(shù)被廣泛用于對(duì)高分子薄膜材料的表面改性。等離子體改性相對(duì)于其它的一些改性方法,它僅僅對(duì)材料的淺表面(<10-8m)進(jìn)行改性反應(yīng),不損傷材料的內(nèi)部結(jié)構(gòu),對(duì)材料的整體性能幾乎不產(chǎn)生影響,尤其是力學(xué)性能,但可以明顯的改善材料表面的極性及結(jié)構(gòu),進(jìn)而改善材料的潤(rùn)濕性能。...
2024-04-15等離子體清洗根據(jù)等離子體產(chǎn)生方式不同,可以分為電暈等離子體清洗、輝光等離子體清洗、射頻等離子體清洗、介質(zhì)阻擋(DBD)等離子體清洗、微波等離子體清洗、大氣常壓等離子體(APPA)清洗。其中,電暈等離子體清洗、輝光等離子體清洗和射頻等離子體清洗一般用作低壓清等離子體清洗,而介質(zhì)阻擋等離子體清洗、微波等離子體清洗和大氣常壓等離子體弧清洗則作為常壓等離子體清洗。...
2024-04-15等離子清洗機(jī)按照等離子發(fā)生器的激發(fā)頻率不同大致上可分為,40KHz(中頻等離子清洗機(jī))、13.56MHz(射頻等離子清洗機(jī))和2.54GHz(微波等離子清洗機(jī))三種。中頻等離子清洗機(jī),指的就是等離子發(fā)生器激發(fā)頻率為40KHz的等離子清洗機(jī)。...
2024-04-01等離子清洗和等離子去膠都是利用等離子體技術(shù)的表面處理技術(shù),它們?cè)谠砩嫌邢嗨浦帲唧w應(yīng)用和目的有所不同。前者主要用于表面的清潔和改性,而后者則主要用于去除特定的物質(zhì),如光刻膠。在實(shí)際應(yīng)用中,應(yīng)根據(jù)具體的工藝需求選擇合適的處理技術(shù)。...
2024-03-29根據(jù)耦合方式分類,等離子清洗機(jī)大致可以分為兩種,一種是CCP電容耦合等離子清洗機(jī)另一種是ICP電感耦合等離子清洗機(jī)。這兩種耦合方式各有優(yōu)劣。...
2024-03-28在線式等離子清洗設(shè)備主要針對(duì)集成電路IC封裝工藝,自動(dòng)將料盒里的引線框架取出并進(jìn)行等離子清洗,去除材料表面污染,提高表面活性,再自動(dòng)放回料盒,全程無(wú)人為干擾。...
2024-03-26等離子清洗機(jī)漏氣可能有以下原因: 氣路部件損壞或老化:長(zhǎng)時(shí)間使用后,氣路部件可能出現(xiàn)損壞或老化,導(dǎo)致氣路連接處不緊密,進(jìn)而發(fā)生漏氣現(xiàn)象。...
2024-03-22等離子清洗機(jī)對(duì)薄膜材料表面的刻蝕作用和在材料表面引進(jìn)大量極性基團(tuán)這二種因素共同作用使得處理后的薄膜材料表面的粘接性、印刷等性能得到大幅度的提高。...
2024-03-21等離子刻蝕的基本原理是利用所需的等離子體對(duì)晶圓表面進(jìn)行物理轟擊并且同時(shí)發(fā)生產(chǎn)生易于揮發(fā)的化學(xué)反應(yīng),從而實(shí)現(xiàn)對(duì)晶圓的刻蝕過程。...
2024-03-18氧等離子體處理親水原理可以認(rèn)為是受兩個(gè)因素的雙重影響:(1)氧等離子體對(duì)材料表面的蝕刻效應(yīng)造成了材料表面形貌在納米尺度的改變;(2)氧等離子體處理后在材料表面引入了新的基團(tuán),例如-OH、-COOH等親水基團(tuán)。需注意的是通過氧等離子體轟擊進(jìn)行的親水處理一般具有時(shí)效性。...
2024-03-14等離子清洗技術(shù)是一種高效的清洗方法,激發(fā)態(tài)的氫氣與氧化物發(fā)生化學(xué)反應(yīng),將氧化無(wú)還原為單質(zhì)和水蒸氣,可以很有效的去處表面氧化物。 ...
2024-03-14