5L射頻等離子清洗機(jī)NE-PE05F

產(chǎn)品型號：NE-PE05F
性能特點(diǎn)：射頻等離子體發(fā)生器，等離子密度大
產(chǎn)品用途：材料表面活化、清潔、改性、蝕刻

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產(chǎn)品介紹
產(chǎn)品參數(shù)

NE-PE05F等離子清洗機(jī)采用電容式耦合輝光放電,內(nèi)電極放電形式。電源為200W射頻功率源,頻率為13.56MHz。輸出功率連續(xù)可調(diào)，射頻電源與射頻匹配器配合，通過阻抗匹配網(wǎng)絡(luò)調(diào)節(jié)射頻等離子體的入射功率和反射功率,使發(fā)生器與等離子體阻抗相匹配。射頻放電產(chǎn)生的等離子體密度大分布均勻，適合處理精度要求高的材料。

工藝流程：

設(shè)定低溫等離子清洗參數(shù)→樣品放入處理腔內(nèi)→打開真空泵→待真空度降至100 Pa以下→打開工藝氣體通道(空氣等)→開啟放電電源→取出樣品。

等離子體處理原理：

等離子體表面處理就是讓等離子體與材料表面接觸，在等離子體作用下改變材料表面性能。等離子體表面處理通常采用非聚合性氣體如Ar、N2、H2、O2等，參與等離子體表面處理反應(yīng)。

電子在等離子體活性粒子中質(zhì)量小、運(yùn)動速度快、能量高。電子和表面的相互作用主要的表現(xiàn)有三種：電子轟擊引起的二次電子發(fā)射，電子轟擊物體表面促使物體表面的吸附分子解離和電子誘導(dǎo)的化學(xué)反應(yīng)等。

離子和表面反應(yīng)分為三類：離子在物體表面的復(fù)合和離子入射物體表面引發(fā)二次電子發(fā)射、離子注入物體表面內(nèi)部將動量傳遞給晶格原子致使晶格原子激發(fā)或電離，入射離子被物體表面反射或捕獲同時入射離子的轟擊還可能是物體表面濺射出粒子、離子誘導(dǎo)表面化學(xué)發(fā)應(yīng)等。

自由基和原子與表面的相互作用，主要是自由基和原子易被化學(xué)吸附在對其母體分子呈惰性的表面上。對于電子碰撞激發(fā)的亞穩(wěn)態(tài)分子易被解激發(fā)，解激發(fā)有可能導(dǎo)致化學(xué)反應(yīng)和脫附。

等離子體處理是一種清潔、環(huán)境友好的表面處理技術(shù),對材料的整體性能不產(chǎn)生影響,因此廣泛應(yīng)用于材料的表面處理,以提高其潤濕性、界面黏結(jié)性能等。與放射線處理、電子束處理等其他干式工藝相比,等離子體表面處理的獨(dú)特之處在于其作用深度僅涉及距離材料表面幾納米到幾百納米范圍,只改變材料表面的物理和化學(xué)特性,材料本身物理、化學(xué)特性不發(fā)生改變。這些優(yōu)點(diǎn)使得低溫等離子體技術(shù)成為改善材料界面結(jié)合效果的一種重要手段。

型號	NE-PE05F
功率	0-200W可調(diào)
頻率	13.56 MHz
腔體材質(zhì)	進(jìn)口316不銹鋼
腔體容積	5L
腔體尺寸（圓形）	Φ150×280（D）mm
有效處理范圍	130（W）*245(D)mm
真空度	＜30Pa
工藝氣體通道	兩路（可通入氧氣、氬氣、氫氣氮?dú)獾龋?/span>
控制方式	PLC+觸摸屏控制
外形尺寸	560mm(L)×550mm(W) ×530 mm(H)
整機(jī)功率	1000W

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5L射頻等離子清洗機(jī)NE-PE05F

工藝流程：

等離子體處理原理：

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