三
等離子體處理技術(shù)是指通過等離子體中的高能粒子對表面進(jìn)行轟擊，使表面物質(zhì)降解，增加表面粗糙度，若等離子體中有其他活性粒子，如氧離子，則可與表面物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)而使表面活化的一種方法...
2022-09-16
從工藝過程控制看，真空等離子清洗機(jī)是通過選擇和調(diào)整工藝參數(shù)如功率、時間、壓力、氣體種類等進(jìn)行工藝控制的，操作方便，簡單，等離子清洗時只有根據(jù)實(shí)際情況選取相關(guān)的工藝參數(shù)才能達(dá)到好的清洗效果。...
2022-09-16
利用等離子體處理PET薄膜表面，結(jié)果表明，經(jīng)過等離子體表面處理后，PET薄膜表面產(chǎn)生大量極性基團(tuán)，親水性明顯提高，PET薄膜表面粗糙度增加，粘接性得到提高。...
2022-09-15
經(jīng)過等離子改性后親水性極性官能團(tuán)的數(shù)量明顯增加，這些基團(tuán)與水分子相互作用強(qiáng)烈，從而增加了PLA的表面潤濕性和表面能，降低了接觸角。...
2022-09-14
等離子體處理可以通過將含氧基團(tuán)和含氮基團(tuán)引入PVC導(dǎo)管表面的方法,使其表面極性改變,提高表面潤濕性,使接觸角(水)降低到10°左右。...
2022-09-14
SU-8光刻膠是由C、H、O、N等元素組成的有機(jī)物。等離子去膠工藝采用的刻蝕氣體是O2/CF4混合氣體。隨著溫度的升高，被激活的氧等離子與有機(jī)物發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，破壞了光刻膠中較穩(wěn)定的化學(xué)成分。同時，F(xiàn)的自由基化學(xué)活性很高，在電離過程中不斷地與光刻膠中H發(fā)生化學(xué)反應(yīng)而生成氟化氫（HF），促進(jìn)了O2與有機(jī)物反應(yīng)，生成的氣態(tài)物質(zhì)最終被清洗氣體（N2）通過抽壓方式排出。...
2022-09-14
高分子材料的等離子體表面處理通常采用輝光放電低溫等離子體,由相互作用引起的表面原子層的變化不超過幾個原子層,因而不會破壞或改變材料的體相性質(zhì)。...
2022-09-11
在正常情況下，硅基光學(xué)元件和CF4和SF6等刻蝕氣體是很難進(jìn)行反應(yīng)的。而將刻蝕氣體通過自由基等離子體源電離產(chǎn)生自由基等離子體，含有的大量自由基反應(yīng)活性十分強(qiáng)，可以破壞硅基光學(xué)材料的化學(xué)鍵，從而發(fā)生了反應(yīng)并且與之結(jié)合產(chǎn)生揮發(fā)性物質(zhì)SiF4，達(dá)到刻蝕目的。...
2022-09-10
除了以上水滴角測試，達(dá)因值測試，拉力值測試幾種簡單評價評估等離子清洗機(jī)清洗效果的方式，其他還可以通過傅立葉紅外光譜測試表面成分，原子力顯微鏡測試表面形貌結(jié)構(gòu)與粗糙度，還可以通過場發(fā)射掃描電子顯微鏡（ FE-SEM ）研究等離子清洗對表面形貌的影響，還可以通過百格測試檢測表面張力是否達(dá)標(biāo)。...
2022-09-09
在半導(dǎo)體行業(yè)等離子清洗機(jī)已廣泛應(yīng)用于表面清洗及活化，以提高表面的粘結(jié)性，能為后繼的芯片粘接、導(dǎo)線連接或塑料封裝工藝做準(zhǔn)備。等離子污染物清除和表面活化技術(shù)改善了表面性質(zhì)，從而提高了半導(dǎo)體封裝工藝的可靠性和產(chǎn)量。...
2022-09-08
低溫等離子體處理丁腈橡膠材料，可以使其表面活化，引入極性基團(tuán)，改善其表面親水性，從而提高其表面的粘接強(qiáng)度。這主要與改性處理后羥基(C-OH) 、羧基( -COOH) 等親水性含氧官能團(tuán)含量的增加有關(guān)。...
2022-09-08
CF4（四氟化碳）在等離子清洗工藝中主要有兩個作用，一個是用來刻蝕，能對更種有機(jī)表面實(shí)現(xiàn)刻蝕，如光刻膠去除。另一個能使被等離子處理材料表面變得疏水。 ...
2022-09-07
廣東省深圳市光明區(qū)華明城高新產(chǎn)業(yè)園A棟5樓 
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