氧等離子體去膠工藝，即是利用氧等離子體中的高反應活性的單原子氧極易與光刻膠中的碳氫氧高分子化合物發(fā)生聚合物反應，從而生成易揮發(fā)性的反應物，最終達到去除光刻膠層的目的。這個工藝，通常又被稱灰化工藝（PRAshing）。...
2022-11-16
水平式等離子清洗機：在平行板電極兩端施加13.56M的高頻功率，通入工作氣體，在該頻率的持續(xù)激勵下，產生等離子體，因平行電極板結構與電容器類似，故這種在平行電極兩端產生的等離子體的等離子清洗設備被稱之為水平式等離子清洗機。...
2022-11-14
采用Ar和H2的混合氣體對引線框架表面進行等離子清洗，可以有效去除表面的雜質沾污、氧化層等，從而提高銀原子和銅原子活性，大幅提高焊線與引線框架的結合強度，提高產品良率。...
2022-11-14
所謂起輝，指的是氣體原子的核外電子受到激發(fā)后躍遷至高能級，并在弛豫的過程中生成光量子，產生輝光的現象。不同氣體通入等離子清洗機中所產生的輝光顏色不盡相同，例如氬氣的輝光為深紅色，氦氣的輝光為紫紅色而氮氣輝光為橙紅色，這通常是由氣體分子本身能帶差異所決定的。...
2022-11-14
等離子體清洗可以有效的清除單晶硅表面殘留的拋光雜質。使用氧等離子體清洗預處理單晶硅表面有利于后續(xù)離子束拋光過程，可以在一定程度上改善了單晶硅的表面粗糙度和抑制表面光熱弱吸收水平的惡化。...
2022-11-11
目前,等離子體清洗機已經得到了廣泛應用,其主要應用行業(yè)領域及研究成果主要集中在以下方面：電子和微電子工業(yè)，塑料制品行業(yè)，半導體和玻璃行業(yè)。...
2022-11-10
等離子清洗能夠去除鍍金陶瓷基板和元器件表面分子水平污染物，保證連接部分原子間緊密接觸，大幅提升芯片粘接強度和金絲鍵合強度，為產品可靠性奠定基礎，是微組裝工序的質量保證。...
2022-11-09
等離子清洗機清洗缺點主要有三點：產品外表面發(fā)生氧化產生氧化物，附著在產品表面，改性效果存在時效性，它有可能會對材料表面造成很大損傷和侵蝕。...
2022-11-08
將鍍膜玻璃放入真空等離子清洗機中進行清洗和改性，可去除光學玻璃鏡面表面殘留的一些細微污染物以及分子原子基團等，離子轟擊使表面粗糙，并使得后續(xù)鍍膜玻璃表面具有很強的親水性能，這種凹凸不平和強親水性能的表面,有利于光學玻璃鍍膜中顆粒的沉積,提高鍍膜的粘結性和均勻性。...
2022-11-08
碳纖維樹脂基復合材料作為復合材料中的優(yōu)秀代表，由于其獨特的性能優(yōu)勢，具有很大的發(fā)展?jié)摿?，等離子體處理碳纖維能有效改善碳纖維和樹脂基之間的粘接強度，并且環(huán)保、節(jié)能，適合工業(yè)化應用。...
2022-11-08
在化學鍍銅工藝中增加等離子體清洗工序,能夠減小ITO玻璃表面的水接觸角、提高鍍銅層的清潔度和附著力。同時,通過優(yōu)化等離子體的處理條件,可使化學鍍銅層的性能得到進一步改善。...
2022-11-08
離子體處理后電極片的浸潤性明顯提高，水接觸角由94.8°降低到17.7°。經過等離子體處理的電極片表面活性增加顯著，更有利于粘接。等離子體處理具有不受限于被處理基片的材質、可實現復雜結構的精確控制清洗、 綠色環(huán)保等優(yōu)點。...
2022-11-07
廣東省深圳市光明區(qū)華明城高新產業(yè)園A棟5樓 
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