等離子清洗機(jī)與極紫外（UV）清洗機(jī)的區(qū)別與聯(lián)系

文章出處：等離子清洗機(jī)廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間：2022-07-12

等離子清洗技術(shù)

等離子體清洗技術(shù)是采用氣體作為清洗介質(zhì)，由于沒有使用液體清洗介質(zhì)，故不會帶來二次污染。等離子體清洗設(shè)備在工作時真空清洗腔中的等離子體輕柔沖刷待清洗表面，在很短的時間內(nèi)就可以把污染物徹底的清洗掉，同時使用真空泵把污染物抽走，該種方法的清洗程度可以達(dá)到分子級的。等離子技術(shù)在工件表面的清洗去污、表面噴涂、表面改性、刻蝕等領(lǐng)域廣泛應(yīng)用。

典型的等離子物理清洗工藝是氬氣等離子清洗，氬氣本身是惰性氣體，等離子體的氬氣不和表面發(fā)生反應(yīng)，而是通過離子轟擊使表面清潔。典型的等離子化學(xué)清洗工藝是氧氣等離子清洗，通過等離子體產(chǎn)生的氧自由基非?；顫?，容易與碳?xì)浠衔锇l(fā)生反應(yīng)，產(chǎn)生二氧化碳、一氧化碳和水等易揮發(fā)物，從而去除表面的污染物。

紫外光清洗技術(shù)

紫外光清洗技術(shù)是利用紫外光發(fā)出的特種波長的光子能量，對物體表面吸附的有機(jī)物（碳?xì)浠衔铮┌l(fā)生光敏氧化作用，達(dá)到去除粘附在物體表面上的碳?xì)浠衔铩＝?jīng)過光清洗的物體表面潔凈度能達(dá)到一般清洗方法難以達(dá)到的原子級清潔度。如果在光敏氧化過程中，被清洗物體表面具有光催化作用，不僅能加快紫外光清洗的過程，而且清洗的效果更為徹底。

清洗時由大功率高強(qiáng)度的紫外光光源發(fā)出兩個特定波長的光子能量作用于被清洗物體表面，由于粘附在物體表面的污染物大多為有機(jī)物，大多數(shù)的有機(jī)物對短波紫外線有較強(qiáng)的吸收能力，有機(jī)物分子在吸收了短波紫外線后分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子和中性分子。真空紫外線可使空氣中的氧氣電離產(chǎn)生臭氧和原子氧，臭氧對短波紫外線同樣具有強(qiáng)烈的吸收作用，在短波紫外線光子能量的作用下，臭氧又分解為氧氣和原子氧，原子氧是極為活潑的，在它的作用下，物體表面的有機(jī)污染物很快氧化成二氧化碳和水，在一定的溫度下，兩者都可以從物體表面揮發(fā)掉，起到清潔物體表面的作用。

紫外光清洗技術(shù)的應(yīng)用范圍十分廣泛，例如：各種材料（ITO玻璃、光學(xué)玻璃、鉻板、掩膜版、拋光石英晶體、硅）晶片和帶有氧化膜的金屬等的精密清洗處理；清除石蠟、松香、油脂、人體體油以及殘余的光刻膠、聚酰亞胺和環(huán)氧樹脂；高精度印制電路板焊接前的清洗和殘余焊劑去除，以及敷銅箔層壓板的表面清潔和氧化層生成；超高真空密封技術(shù)和熱壓焊接前的表面清潔處理以及各種微型元件的清洗等。

等離子清洗機(jī)與紫外清洗機(jī)的區(qū)別與聯(lián)系（以ITO玻璃清洗為例）

等離子清洗機(jī)可以在真空狀態(tài)下形成等離子體，可以對ITO/玻璃基底進(jìn)行物理轟擊和化學(xué)反應(yīng)雙重作用，使基底表面物質(zhì)變成粒子和氣態(tài)物質(zhì)，經(jīng)過抽真空排出，而達(dá)到清洗的目的，它可以達(dá)到常規(guī)清洗方法無法達(dá)到的效果，不僅可以去除有機(jī)污染物、油污或油脂，還能夠改變ITO的功函數(shù)，改善材料表面的浸潤能力，有利于后續(xù)的傳輸層溶液的涂覆。

在LCD行業(yè)中,清洗是指清除吸附在玻璃表面的各種有害雜質(zhì)或油污的工藝,沒有經(jīng)過紫外光清洗的氧化銦錫(ITO)玻璃基片,在俄歇電子能譜分析曲線上會看到有明顯的碳峰,表明有碳?xì)浠衔锎嬖凇６?jīng)過紫外光清洗的ITO玻璃的俄歇電子能譜分析曲線上的碳峰消失了,表明ITO玻璃表面已經(jīng)沒有殘存的碳?xì)浠衔?達(dá)到了原子清潔度。

總的來看兩種清洗方式都能去除ITO表面的有機(jī)物，但是等離子清洗機(jī)相較于紫外清洗機(jī)，不僅能去除ITO玻璃表面有機(jī)物雜質(zhì)，還有利于提高ITO表面的功函數(shù)和改善表面親水性。

綜上所述：紫外清洗機(jī)和等離子清洗機(jī)都能有效去除材料表面的有機(jī)污染物，但是等離子清洗機(jī)在清洗完材料表面的有機(jī)污染物的同時，還能改變材料的某些性能，如親水性等。在ITO玻璃清洗方面，完全可以用等離子清洗機(jī)來替代紫外清洗機(jī)。

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