真空等離子清洗機用的什么氣體，怎么選擇？

文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間：2024-07-17

很多客戶在購買真空等離子清洗機后，經(jīng)常會問到的問題就是真空等離子清洗機該用什么氣體來清洗效果最好，對于不同類型的氣體而言，其清洗的作用機理以及應用范圍都是不同的。下面納恩科技小編就為大家解答一下這個問題，幫助客戶在使用等離子清洗機的時候能夠更加合理選用工藝氣體。

真空等離子清洗可以選用多種混合氣體，也可以是單一某種氣體，在真空等離子清洗洗過程中，主要是利用一些非聚合性無機氣體（Ar2、N2、H2、O2等）在高頻低壓下被激發(fā)，產(chǎn)生含有離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等多種活性粒子。一般在真空等離子清洗機清洗過程中，可把工藝氣體分為2類，一類為惰性非反應性氣體的等離子體（如Ar2、He等）；另一類為反應性氣體的等離子體（如O2、H2等）。

每種氣體由于自身的不同屬性，對污染物和清洗物質(zhì)均有著不同的反應效果，下面是一些常見的氣體在真空等離子清洗過程中的作用介紹

氧氣：
氧氣化學性質(zhì)比較活潑，具有較強的氧化性，氧氣等離子清洗主要用來清洗有機污染物，氧氣等離子清洗，其作用機理是氧氣在高頻低壓狀態(tài)下，會被激發(fā)成由離子、激發(fā)態(tài)氧分子、自由基等多種活性粒子組成的等離子體，它們會與物體表面的油脂污垢發(fā)生反應，最終使得油脂分子被氧化成二氧化碳分子和水，從而將其從物體表面剝離去除。同時等離子體中的電子、離子也會對物體的表面進行撞擊，大量的粒子撞擊除了可以去除物體表面上附著的顆粒物質(zhì)之外，還可以有效的激發(fā)化學反應的進行，促進油脂分子和等離子體的反應分解。

經(jīng)過氧等離子體處理，還可以在材料表面發(fā)生化學反應，形成新的官能團，例如羥基、羧基等與表面自由基、形成交聯(lián)結構層使得材料表面特性發(fā)生突變，進而獲得新的化學結構。經(jīng)氧等離子體處理后使得更多的含氧基團引入可以顯著改善材料表面的親水性能。

氬氣和氦氣
氬氣與氦氣都屬于不活潑氣體，是最常用的非反應性氣體，其清洗方式屬于一種物理清洗方式，利用高速粒子沖擊進行物理清洗。通過物理撞擊破壞基板分子鍵，提高表面微粗糙度，在材料表面產(chǎn)生大量的自由基。當He-Ar組成的潘寧氣體混用時，大量結合的電子保持在激發(fā)狀態(tài)，能夠激發(fā)電離能較小的氣體分子，產(chǎn)生潘寧效應(Penningeffect)，進而提高氣氛中多種粒子的反應活性。

氫氣：
氫氣具有還原性，能夠?qū)⒔饘匐s質(zhì)等進行還原處理，一般將其與氬氣同時使用，能夠保證更高的清洗效率和效果。

四氟化碳
四氟化碳是微電子行業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體之一，主要應用于各種集成電路的等離子蝕刻和清洗工藝，和對材料表面進行疏水改性。

混合氣體：
將不活潑氣體與活潑氣體進行組合，可以同時利用物理過程和化學反應實現(xiàn)多重清洗效果。比如清洗采用氬氣與氫氣混合氣體，首先通過氬氣沖擊使物體表面結構活化，再通過氫氣的還原作用清洗，可以增加粗糙程度，增強結合強度。

其他：
在等離子體官能化處理中，反應性氣體(O2、NH3、N2、H2、CO2和H2O等)能夠在放電氣氛中產(chǎn)生大量的活性粒子(電子、離子、原子和亞穩(wěn)態(tài)粒子等)，這些粒子擁有足夠的能量，表現(xiàn)出強反應活性，可在材料表面發(fā)生反應，引入所需官能團。

以上就是國產(chǎn)等離子清洗機廠家納恩科技，關于真空等離子清洗機用什么氣體的一些解答，希望能對客戶有所幫助，等離子清洗技術的工作介質(zhì)是氣體，因此本質(zhì)上是一種干燥清洗方式，工作氣體多為空氣或者氧氣、氦氣等無毒氣體，綠色環(huán)保且不會對被清洗物造成二次污染。