等離子清洗設(shè)備電源該如何選擇？
文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間：2022-07-28
等離子清洗是一種干法物理化學(xué)清洗技術(shù)。它是利用低真空狀態(tài)下工藝氣體 因電場的作用，產(chǎn)生輝光放電，將工藝氣體電離成離子流，轟擊工件表面，使其 產(chǎn)生物理化學(xué)反應(yīng)，達到清洗目的。等離子清洗設(shè)備的電源又稱為等離子發(fā)生器，是等離子清洗設(shè)備的核心原器件，也是產(chǎn)生等離子體的關(guān)鍵所在。
等離子清洗設(shè)備電源的選擇與其頻率的選擇是確保等離子質(zhì)量和過程靈活性的兩個最重要的參數(shù)。對于清洗中的應(yīng)用,射頻發(fā)生器的頻率是標準,它確定能否很好的將氣體激發(fā)為等離子態(tài)。13.56MHz，和40KHz是最常用的頻率。
與射頻等離子發(fā)生器相關(guān)聯(lián)的還有匹配網(wǎng)絡(luò),如果阻抗負載不能精確調(diào)節(jié),射頻發(fā)生器將會被損壞,這是由于承受波的反饋的原因。匹配性的調(diào)節(jié)在獲得好的清洗效果中是必要的。合適的匹配系統(tǒng)與高品質(zhì)的射頻發(fā)生器將會自動調(diào)節(jié)負載阻抗,甚至當清洗的條件與操作都發(fā)生變化的情況下也能做到。這保證了最佳的等離子體密度和可重復(fù)性。
等離子清洗設(shè)備按其等離子激發(fā)頻率可分為：低頻(40KHz)、高頻(13.56MHz)和微波(2.45GHz)三種等離子清洗設(shè)備，隨著頻率的升高，離子濃度增大，離子能量下降。低頻等離子清洗主要應(yīng)用于污染較重，且不易受到損傷的元件(如外殼、成膜基板、焊片等)，其中主要是離子的物理撞擊作用(物理清洗)，化學(xué)清洗作用其次。微波等離子清洗主要應(yīng)用于敏感器件(半導(dǎo)體芯片，特別是微波器件)，這時主要是離子化學(xué)反應(yīng)。而高頻等離子清洗的應(yīng)用則介于上述兩者之間。
等離子清洗設(shè)備電源除了頻率選擇之外，一般行業(yè)內(nèi)配的電源主要有進口和國產(chǎn)之分，國外的進口電源一般會比國產(chǎn)要貴很多。如果對于設(shè)備配置要求不是很高，可以選擇國產(chǎn)電源，支持國產(chǎn)，對于國產(chǎn)品牌的成長也會起到一定的幫助。
以上就是國產(chǎn)等離子清洗設(shè)備廠家納恩科技關(guān)于等離子清洗設(shè)備電源如何選擇的簡單介紹，等離子清洗設(shè)備電源選擇主要考慮兩個方面，一個是頻率，一個是價格，考慮性價比就選擇國產(chǎn)，考慮質(zhì)量和效果就選擇進口。
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