等離子清洗機(jī)清洗缺點(diǎn)介紹

文章出處：等離子清洗機(jī)廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時(shí)間：2022-11-08

等離子清洗機(jī)的應(yīng)用，起源于20世紀(jì)初，隨著高科技產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，其應(yīng)用愈來愈廣，目前已在眾多高科技領(lǐng)域中，居于關(guān)鍵技術(shù)的地位。等離子清洗技術(shù)對產(chǎn)業(yè)經(jīng)濟(jì)和人類文明影響最大，首推電子資訊工業(yè)，尤其是半導(dǎo)體業(yè)與光電工業(yè)。等離子清洗機(jī)已應(yīng)用于各種電子元件的制造，可以確信，沒有等離子清洗技術(shù)，就沒有今日這么發(fā)達(dá)的電子、資訊和通訊產(chǎn)業(yè)。隨著等離子清洗機(jī)的大量運(yùn)用，等離子清洗機(jī)清洗缺點(diǎn)也成為了人們關(guān)心的對象，目前等離子清洗機(jī)最大的缺點(diǎn)就是時(shí)效性問題。

等離子體清洗優(yōu)勢明顯，具有操作簡單、精密可控、無需加熱處理、整個(gè)工藝過程無污染以及安全可靠等特點(diǎn)，在表面處理領(lǐng)域中獲得了大規(guī)模的推廣應(yīng)用。

當(dāng)然，我們也必須承認(rèn)，大多數(shù)新鮮事物在剛面世的時(shí)候，都是不完美的。它之所以出現(xiàn)，不過是剛好比前一個(gè)完美罷了；但隨著新事物的推陳出現(xiàn)，永遠(yuǎn)有后面的事物取代先前的。既然如此，我們在研究新事物時(shí)，首先應(yīng)該看到對方的優(yōu)點(diǎn)——畢竟新事物是基于當(dāng)前時(shí)間、當(dāng)前地點(diǎn)、當(dāng)前條件下的完美。然后，我們要嘗試用研究優(yōu)點(diǎn)的態(tài)度去關(guān)注缺點(diǎn)，辯證地去看待新事物的出現(xiàn)。

下面我們就一起來了解下等離子清洗機(jī)清洗的缺點(diǎn)：

一方面，當(dāng)各種活性粒子與被清洗物體表面彼此碰觸時(shí)，各種活性粒子與物體表面雜質(zhì)污物會發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，形成易揮發(fā)性的氣體等物質(zhì)，隨后易揮發(fā)性的物質(zhì)會被真空泵吸走。例如，活性氧等離子體與材料表面的有機(jī)物發(fā)生氧化反應(yīng)。它的優(yōu)點(diǎn)是清洗過程相對較快、選擇性相對好以及清除污染物的效果非常好，缺點(diǎn)是產(chǎn)品外表面發(fā)生氧化產(chǎn)生氧化物，附著在產(chǎn)品表面。

另一方面，各種活性粒子會轟擊清洗材料表面，使得材料表面的沾污雜質(zhì)會隨氣流被真空泵吸走。這種清洗方式本身不存在化學(xué)反應(yīng)，在被清潔材料表面沒有留下任何氧化物，因此可以很好地保全被清洗物的純凈性，保障材料的各向異性。缺點(diǎn)是它會對材料表面造成很大損傷和侵蝕，會在材料表面發(fā)生很大的反應(yīng)熱，對被清洗表面的雜質(zhì)污物選擇性差。例如，用活性氬等離子體清洗物件表面微粒污染物，活性氬等離子體轟擊被清洗件表面后產(chǎn)生的揮發(fā)性污染物會被真空泵排出。

如果說上述等離子清洗機(jī)清洗缺點(diǎn)可以通過改善工藝來解決的話，那么時(shí)效性，應(yīng)該是等離子清洗的最大缺點(diǎn)了。低溫等離子清洗技術(shù)是一種清潔且高效節(jié)能的新型材料表面改性技術(shù)。該技術(shù)在改善材料表面性能的同時(shí)，仍可保持本體性能的特色，在材料表面改性方面具有廣闊的應(yīng)用前景。然而缺點(diǎn)是，經(jīng)過低溫等離子體處理的材料的改性效果會隨時(shí)間發(fā)生明顯衰減，改性效果存在時(shí)效性。

世上事物都是一分為二的。俗話說：金無足赤，人無完人。等離子清洗機(jī)也不是完美的，等離子清洗機(jī)清洗也是優(yōu)缺點(diǎn)的，但是這點(diǎn)缺點(diǎn)相對于它的優(yōu)點(diǎn)來說，顯得就不那么重要了，因?yàn)樵诠I(yè)中等離子清洗機(jī)已經(jīng)得到了大量運(yùn)用，也就是說它的缺點(diǎn)，并沒有放大到不能接受的地步。