低溫等離子清洗設(shè)備的主要部件組成及其結(jié)構(gòu)示意圖

文章出處：等離子清洗機(jī)廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時(shí)間：2022-09-27

典型的低溫等離子清洗設(shè)備由五個(gè)部分組成分別有真空腔、電極組件、等離子體發(fā)生器、真空系統(tǒng)和控制系統(tǒng)。低溫等離子清洗設(shè)備為一個(gè)獨(dú)立的立式機(jī)柜結(jié)構(gòu)形式,設(shè)備的所有部分除了處理氣體外置均集成在機(jī)柜中，等離子清洗設(shè)備主要組成部件及其結(jié)構(gòu)如下圖1所示。

圖一低溫等離子清洗設(shè)備總體結(jié)構(gòu)示意圖
1觸摸屏 2控制按鈕 3等離子體發(fā)生器 4機(jī)柜 5真空腔體 6真空計(jì) 7電極板 8饋電組件 9真空電磁閥 10流量計(jì) 11電極板架 12放氣閥 13真空泵

真空腔體
需等離子體處理的材料放置于真空腔體中,真空腔體為一方形結(jié)構(gòu),其容積大小取決于需一次處理的產(chǎn)品數(shù)量的多少,當(dāng)然,真空腔體的大小也不是任意確定的,其容積越大,則真空泵的功率就越大,甚至需要采用真空泵機(jī)組才能滿足真空腔體產(chǎn)生低溫等離子體所需要的真空度。因此,真空腔體的大小是根據(jù)一次處理的產(chǎn)品數(shù)量和真空泵的功率和抽氣速率綜合考慮設(shè)計(jì)的。真空腔體置于機(jī)柜的右上方或左上方,以方便產(chǎn)品的取放。

電極組件
在真空腔體中,設(shè)計(jì)有多組平行電極板,可一次性容納多個(gè)產(chǎn)品同時(shí)進(jìn)行等離子體處理。平行電極板的多少取決于真空腔的大小,等離子體發(fā)生器分布在每組平行電極板上的能量相等,使電極間產(chǎn)生穩(wěn)定的電流。

等離子體發(fā)生器
等離子體發(fā)生器信號(hào)加在電極上便開(kāi)始激發(fā)真空腔體內(nèi)的處理氣體產(chǎn)生等離子體,處理用氣體等離子體發(fā)生器能量被電離。常用等離子體發(fā)生器工作頻率從千赫茲到兆赫茲。其中射頻等離子體發(fā)生器的頻率為13.56MHz,中頻等離子體發(fā)生器的頻率為40KHz。

真空系統(tǒng)
低溫等離子清洗設(shè)備中真空系統(tǒng)是一個(gè)關(guān)鍵部分。真空系統(tǒng)提供保持等離子體產(chǎn)生時(shí)一定的真空度的處理氣體以一定量進(jìn)入真空腔體,一旦真空腔體達(dá)到產(chǎn)生等離子體所要求的真空度,等離子體發(fā)生器信號(hào)加到電極上便產(chǎn)生等離子體。處理氣體通過(guò)真空系統(tǒng)中的流量控制器被導(dǎo)入真空腔體,由流量控制器控制每種處理氣體精確流入保證低溫等離子體處理材料的要求。

控制系統(tǒng)
低溫等離子清洗設(shè)備的真空系統(tǒng)和等離子體發(fā)生器的運(yùn)行均由控制系統(tǒng)控制?？刂葡到y(tǒng)由作為核心,通過(guò)觸摸屏作為人機(jī)接口,在觸摸屏上進(jìn)行手動(dòng)操作和自動(dòng)操作。在觸摸屏上控制真空泵、等離子體發(fā)生器、進(jìn)氣閥、排氣閥、氣體流量計(jì)的開(kāi)啟,真空度的設(shè)置、處理時(shí)間、處理氣體的選擇和流量大小、等離子體發(fā)生器功率等都由控制系統(tǒng)進(jìn)行控制,整個(gè)控制系統(tǒng)在自動(dòng)狀態(tài)下可適時(shí)進(jìn)行動(dòng)態(tài)控制。

以上是國(guó)產(chǎn)等離子清洗設(shè)備廠家納恩科技有關(guān)于低溫等離子清洗設(shè)備的主要部件組成及其結(jié)構(gòu)示意圖的簡(jiǎn)單介紹，低溫等離子清洗設(shè)備也被稱為等離子表面處理儀，是一種比較新穎的技術(shù)，它利用等離子體來(lái)清潔，可以達(dá)到常規(guī)清洗無(wú)法企及的水平。與激光清洗的直射光線不同，等離子體的方向性不強(qiáng)，這使得它可以深入表面的細(xì)微孔洞和凹陷的內(nèi)部。高精度的時(shí)間和功率控制，不會(huì)使基片表面產(chǎn)生損傷，表面質(zhì)量得到保證。具有去除能力極強(qiáng)，非接觸式清洗，操作簡(jiǎn)便，無(wú)二次污染的強(qiáng)大優(yōu)勢(shì)。

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