PCB、FPC等離子清洗法去除HDI孔內鉆污
文章出處:等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間:2022-06-07
無論是數(shù)控鉆孔還是激光打孔,在加工的過程中都會產(chǎn)生一定的污染。若采用機械鉆孔,在鉆孔過程中的某個瞬間鉆頭經(jīng)常會產(chǎn)生200℃以上的高溫,而我們在PCB選用材料的過程中都含有某些Tg(玻璃轉化溫度,GlassTransitionTemperature,即高聚物由高彈態(tài)轉變?yōu)椴AB(tài)的溫度,沒有很固定的數(shù)值,往往隨著測定的方法和條件而改變)小于200℃的材料,這樣使得鉆屑熔化在孔壁上產(chǎn)生鉆污,若選用CO2激光鉆孔在內層銅箔表面會出現(xiàn)介質材料殘膜或炭化殘留物,如果在沉銅前不處理干凈,就會產(chǎn)生沉不上銅或者沉銅疏松等現(xiàn)象,金屬化失效,產(chǎn)品開路報廢。
隨著孔徑的不斷減小,去鉆污工藝也在不斷的發(fā)展和完善,出現(xiàn)了硬板和軟板方法不同,普通板和HDI板不同的現(xiàn)象,總的來說孔清洗工藝經(jīng)歷了一個從濕法到干法的一個過渡。濕法處理包括濃鉻酸、濃硫酸、高錳酸鉀處理,以及PI調整等方法。鉻酸清洗由于其嚴重的環(huán)境污染問題,現(xiàn)在已無人采用,濃硫酸、堿性高錳酸鉀處理,主要應用于硬板的去鉆污過程,PI調整法則應用于撓性多層線路板去鉆污,超聲波清洗作為輔助的清洗方法。干法處理是在真空環(huán)境下通過激光,等離子體除去孔內鉆污。此法需要專門的處理設備,一般在處理撓性多層板、剛撓結合多層板、聚酰亞胺多層板和微小孔徑的剛性多層板時使用。
等離子清洗法
等離子體是物質存在的第四種狀態(tài),其本質是部分離子化了的氣體,由電子、離子、活潑自由基、分子四種形態(tài)組成。等離子處理技術廣泛應用于各個領域,根據(jù)其應用的領域的不同,等離子處理所選用的氣體也不同,在HDI板金屬化前處理實驗中選用等離子清洗,所用氣體為CF4和O2。
在線路板的清洗蝕刻中的反應氣體主要有N2,Ar,He,O2,CF4,H2等,不同氣體的作用不同,如氧氣等離子體可以使有機物沉積被氧化掉,惰性氣體等離子體可以使顆粒狀污染被機械地沖洗掉,氫氣等離子體可以使金屬表面的氧化物被還原等。用于FPC以及多層板孔清洗的是O2和CF4,在高頻的作用下產(chǎn)生等離子體,如下反應:
O2→O+O(1-1)
CF4→CF2+2F(1-2)
CF4→CF3+F(1-3)
清洗過程中活化態(tài)的O原子通過進攻C=C鍵、C=O鍵進行反應,而F原子則進攻C-H鍵,形成活躍物質,然后和氧原子反應生成揮發(fā)性產(chǎn)物而被排出系統(tǒng)。清洗過程分五個步驟:等離子產(chǎn)生,等離子向物體表面擴散,和被清洗材料發(fā)生反應,得到易揮發(fā)的產(chǎn)物,脫離材料表面,產(chǎn)物被抽走。
等離子清洗的工藝步驟
1,高壓水洗。高壓水洗除去吸附在孔壁表面的鉆污,減輕后面等離子處理的負荷。
2,烘板,去除板中的潮氣。撓性印制電路板所用材料中的丙烯酸樹脂和聚酰亞胺樹脂吸潮系數(shù)較大,如潮氣進入真空系統(tǒng),必然降低真空度,同時在真空泵中凝結,會對真空泵造成極大的損害。另外潮氣也影響等離子體的化學活性。同時預熱印制板能提高材料的活性,為進一步反應做好準備。
3,等離子清洗。等離子體處理的工藝參數(shù)主要包括:氣體比例,流量,射頻功率,真空度和處理時間。等離子體去鉆污凹蝕是復雜的物理化學過程,鉆孔質量,前處理效果,印制板潮濕程度和溫度,印制板上孔的分布和大小等也會影響等離子體清洗的效果。從實際情況出發(fā),設計合理的布線,適時的調整前道工序,優(yōu)化清洗參數(shù)都是非常重要的,只有這樣才能確保清洗質量,提高產(chǎn)品的合格率。