等離子處理原理是在真空腔室里,在一定壓力的條件下利用射頻電源 對(duì)氣體施加一定的能量,使之成為無(wú)序的高能量的等離子體,利用這些等離子體來(lái)轟擊陽(yáng)極ITO的表面,進(jìn)行改性、清潔或者光刻等處理,進(jìn)而提高其表面功函數(shù)。...
2024-09-09泳鏡起霧會(huì)嚴(yán)重降低其透光率,影響其使用效果,將透明超親水防霧涂層應(yīng)用于泳鏡表面防霧可在極短的時(shí)間內(nèi)平鋪成均勻水膜,使涂層快速發(fā)揮優(yōu)異的防霧效果。利用等離子清洗可以提高超親水涂層與泳鏡表面的結(jié)合力,改善膜層的均勻性和耐久性能。...
2024-09-02等離子體(plasma)處理能在保持材料原有的物理化學(xué)性質(zhì)前提下,有效引入大量的活性官能團(tuán)或形成穩(wěn)定均勻的聚合物薄膜,以提高材料的表面性能。Plasma處理具有裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作簡(jiǎn)單、低耗能、環(huán)保等離子體活性高等優(yōu)點(diǎn),在材料表界面改性上具有較為廣泛的應(yīng)用。...
2024-07-08在線式等離子清洗設(shè)備主要針對(duì)集成電路IC封裝工藝,自動(dòng)將料盒里的引線框架取出并進(jìn)行等離子清洗,去除材料表面污染,提高表面活性,再自動(dòng)放回料盒,全程無(wú)人為干擾。...
2024-03-26等離子清洗機(jī)對(duì)薄膜材料表面的刻蝕作用和在材料表面引進(jìn)大量極性基團(tuán)這二種因素共同作用使得處理后的薄膜材料表面的粘接性、印刷等性能得到大幅度的提高。...
2024-03-21等離子刻蝕的基本原理是利用所需的等離子體對(duì)晶圓表面進(jìn)行物理轟擊并且同時(shí)發(fā)生產(chǎn)生易于揮發(fā)的化學(xué)反應(yīng),從而實(shí)現(xiàn)對(duì)晶圓的刻蝕過(guò)程。...
2024-03-18等離子清洗技術(shù)是一種高效的清洗方法,激發(fā)態(tài)的氫氣與氧化物發(fā)生化學(xué)反應(yīng),將氧化無(wú)還原為單質(zhì)和水蒸氣,可以很有效的去處表面氧化物。 ...
2024-03-14綜述了近年來(lái)研究者對(duì)材料表面常用的處理方法,主要包括物理法、機(jī)械法以及化學(xué)法的研究進(jìn)展,介紹了表征材料表面結(jié)構(gòu),化學(xué)組成以及表面形貌常用的分析方法。通過(guò)對(duì)材料表面進(jìn)行處理從而達(dá)到提高粘接性能的目的。...
2024-02-21隨著等離子清洗技術(shù)的不斷進(jìn)步與廣泛應(yīng)用,其等離子體產(chǎn)生方式也從直流輝光放電產(chǎn)生等離了體發(fā)展到射頻激發(fā)等離子體,微波等離子體,脈沖等離子體清洗等。...
2024-01-18微波等離子是由工作頻率為2.45GHz的微波激發(fā)工藝氣體放電,在正負(fù)極磁場(chǎng)作用下的諧振腔體內(nèi)產(chǎn)生等離子體,該諧振腔體位于反應(yīng)倉(cāng)體旁邊,磁控管連接微波發(fā)生器,因?yàn)檎麄€(gè)放電過(guò)程不需要正負(fù)電極,所以產(chǎn)生自偏壓極小,從根本上避免了靜電放電損傷。...
2024-01-10NH3反應(yīng)性氣體的低溫等離子體由于含有N、N+、N、Nm(亞穩(wěn)態(tài))、N*、N2*等活性離子,它們可與材料表面形成自由基或不飽和基反應(yīng),從而結(jié)合到大分子鏈上改變材料表面的化學(xué)組分。NH3低溫等離子體處理材料表面,可以在材料表面引入了氨基-NH2官能團(tuán)。...
2023-08-21在現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)過(guò)程中,清洗是一個(gè)具有關(guān)鍵意義的環(huán)節(jié)。為了確保產(chǎn)品質(zhì)量、提高生產(chǎn)效率,等離子清洗機(jī)作為一種高效、環(huán)保、精密的清洗設(shè)備,正逐漸成為各行各業(yè)的首選。本文將介紹等離子清洗機(jī)的原理、功能和優(yōu)勢(shì),闡述其在工業(yè)清洗領(lǐng)域的重要性和應(yīng)用前景。...
2023-08-03